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真空镀膜的发展趋势
日期：2024-05-17 10:28
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摘要：
真空泵维修 ，蒸发，溅射镀膜和离子镀等通常称为物**相沉积法，是基本的薄膜制备。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以，真空是薄膜制作的基础，获得并保持所需的真空环境，是镀膜的必要条件。
真空系统的种类繁多。在实际工作中，必须根据自己的工作重点进行选择。典型的真空系统包括：获得真空的设备（真空泵），待抽空的容器（真空室），测量真空的器具（真空计）以及必要的管道，阀门和其它附属设备。
科技发展愈来愈快，信息高速公路，数字地球等新概念的提出，影响和带动了全球的发展，目前，生命科学，环保科技，材料科学和纳米科技使重点研究的；纳米科技中又以纳米电子学为优先研究。
目前计算机和信息的基础使大规模继承电路；但下个世纪的基本元件将是纳米电子集成电路。它是微电子器件的下一代，有自己的理论，和材料。现有微电子器件的主要材料是极纯的硅，锗等晶体半导体。纳米电子器件有可能是以有机或无机复合晶体薄膜为主要原理，要求纯度更高，结构更完善。真空制备的清洁环境，有希望加工组装出纳米电子器件所要求的结构。
总之，表面和薄膜科学，微电子器件及纳米等迅速发展，将使一起和检测方法体系研究成为真空镀膜中的发展重点；而电子束蒸发源将是真空镀膜中的一种重要的加热方法和发展方向。
真空系统的种类繁多。在实际工作中，必须根据自己的工作重点进行选择。典型的真空系统包括：获得真空的设备（真空泵），待抽空的容器（真空室），测量真空的器具（真空计）以及必要的管道，阀门和其它附属设备。
科技发展愈来愈快，信息高速公路，数字地球等新概念的提出，影响和带动了全球的发展，目前，生命科学，环保科技，材料科学和纳米科技使重点研究的；纳米科技中又以纳米电子学为优先研究。
目前计算机和信息的基础使大规模继承电路；但下个世纪的基本元件将是纳米电子集成电路。它是微电子器件的下一代，有自己的理论，和材料。现有微电子器件的主要材料是极纯的硅，锗等晶体半导体。纳米电子器件有可能是以有机或无机复合晶体薄膜为主要原理，要求纯度更高，结构更完善。真空制备的清洁环境，有希望加工组装出纳米电子器件所要求的结构。
总之，表面和薄膜科学，微电子器件及纳米等迅速发展，将使一起和检测方法体系研究成为真空镀膜中的发展重点；而电子束蒸发源将是真空镀膜中的一种重要的加热方法和发展方向。
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