新闻详情
普发真空：韩国半导体展会上展示真空解决方案
日期：2024-04-27 12:58
浏览次数：1321
摘要：
全球的真空供应商 Pfeiffer Vacuum (普发真空) 将于2014年2月12至14日参加韩国首尔举办的 Semicon Korea 韩国半导体展览会。届时参观者可到展台与 Pfeiffer Vacuum (普发真空) 就其真空解决方案交流意见。“我们很高兴能在 Semicon Korea 韩国半导体展览会上隆重介绍我们重要的真空解决方案。我们凭借这些新的产品树立整个真空行业的新标杆”，Pfeiffer Vacuum Technology AG 公司董事会成员 Matthias Wiemer 博士如此说道。Pfeiffer Vacuum (普发真空) 将在 D 厅 5730 号展台展示新产品：
A4 系列干式真空泵
A4 系列无油多级罗茨泵的抽气速度可达 100 至 1700 m3/h。这种节能且的泵是应对半导体和镀膜工业中苛刻工艺要求的理想选择。耐腐蚀材料和较高的气体流量使此系列的泵适用于，例如 CVD工艺。
A 200 L 干式真空泵
A 200 L 无油多级罗茨泵具有体积小、抽气速度快且时间短的特点。干式真空泵适合在洁净室内运行，适宜用于洁净环境，如Load-Lock和Transfer工艺流程，以及其他无腐蚀性应用。此外，A 200 L 还易于集成到半导体生产设备中且在节能方面表现。
磁悬浮涡轮分子泵 ATH 2804 M 和 ATH 3204 M
ATH-M 系列磁悬浮涡轮分子泵采用一个有源 5 轴磁悬浮轴承来监测转子的位置。这种轴承在实现高速安静运转的同时，也能长期的稳定性和性。高真空泵配备上的这项以及的抽气能力，使其成为半导体生产，是蚀刻工艺，以及许多其他工业应用的不二选择。
Pfeiffer Vacuum (普发真空) 还将出席2014年3月18 至20日上海举办的 Semicon China 半导体展览会。
Semicon Korea 韩国半导体展览会地址：
Convention & Exhibition Center (COEX)
159 Samsung-dong, Gangnam-gu,
Seoul 135731, Korea
D 厅 5730 号展位
Pfeiffer Vacuum 的 A4 系列干式真空泵
A4 系列干式真空泵
A4 系列无油多级罗茨泵的抽气速度可达 100 至 1700 m3/h。这种节能且的泵是应对半导体和镀膜工业中苛刻工艺要求的理想选择。耐腐蚀材料和较高的气体流量使此系列的泵适用于，例如 CVD工艺。
A 200 L 干式真空泵
A 200 L 无油多级罗茨泵具有体积小、抽气速度快且时间短的特点。干式真空泵适合在洁净室内运行，适宜用于洁净环境，如Load-Lock和Transfer工艺流程，以及其他无腐蚀性应用。此外，A 200 L 还易于集成到半导体生产设备中且在节能方面表现。
磁悬浮涡轮分子泵 ATH 2804 M 和 ATH 3204 M
ATH-M 系列磁悬浮涡轮分子泵采用一个有源 5 轴磁悬浮轴承来监测转子的位置。这种轴承在实现高速安静运转的同时，也能长期的稳定性和性。高真空泵配备上的这项以及的抽气能力，使其成为半导体生产，是蚀刻工艺，以及许多其他工业应用的不二选择。
Pfeiffer Vacuum (普发真空) 还将出席2014年3月18 至20日上海举办的 Semicon China 半导体展览会。
Semicon Korea 韩国半导体展览会地址：
Convention & Exhibition Center (COEX)
159 Samsung-dong, Gangnam-gu,
Seoul 135731, Korea
D 厅 5730 号展位
Pfeiffer Vacuum 的 A4 系列干式真空泵
